京东方晶芯科技有限公司近来在国家知识产权局请求了一项名为“一种发光二极管芯片及其制备办法”的专利，揭露号为CN119653936A，请求日期为2024年12月。这项新专利的呈现，无疑将为显现技能领域带来一场立异革新。

  依据专利摘要，这种发光二极管芯片的制备办法触及多层复合衬底，这中心还包含榜首衬底和第二衬底，外延层的设置和处理显得很重要。通过先进的图形化工艺，京东方成功地势成了多个发光单元，再在其反面装置电极，终究通过划片裂片工艺，完成了发光二极管芯片的高效别离。

  这项技能不只旨在降造过程中常见的破片等不良状况，还能明显减薄芯片的厚度，以此来下降出产所带来的本钱。跟着京东方在显现职业的不断深耕，这项新专利也显现了其在商场之间的竞赛中的战略地位与前瞻性。

  值得一提的是，京东方自2020年建立以来，已取得343项专利及参加178次招投标，显现其在科技推广和使用的明显实力。与此同时，京东方还在MLED显现技能上继续发力，日前在珠海成功举办了COB产品量产交给典礼，招引了来自全球各地的客户代表参加，一起见证这一重要时间。

  作为国内显现职业的俊彦，京东方从始至终坚持以技能立异为中心，推动“屏之物联”战略，立志引领显现技能的新纪元。此次发光二极管芯片的专利请求仅仅其技能革新路上的一个里程碑，未来，京东方必然将为全球商场带来更多先进、节能的显现解决方案，助力人们感受到更明晰、实在的视觉体会。回来搜狐，检查更加多